光伏电子行业超纯水设备
我公司光电行业高纯水设备设采用预处理+RO反渗透+EDI+抛光混床+杀菌等工艺,终端产水达到国家电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、国家电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准。
LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、大规模、超大规模集成电路在生产过程需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。 高纯水设备在光电行业应用的范围: ☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路; ☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏; ☆高品质显像管、荧光粉生产; ☆半导体材料、原材料生产、加工、清洗; ☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料; ☆实验室和中试车间; ☆汽车、家电表面抛光处理; ☆光电产品; ☆其他高科技精密产品。泉瑞QRCJ系列光电行业纯水典型工艺: 预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象 (≥18MΩ.CM)(传统去离子水设备工艺) 预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(去离子水设备工艺) 预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM)(去离子水设备工艺) 预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(去离子水设备工艺) 预处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统去离子水设备工艺)