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LeicaEMSCD500是一套多功能高真空镀膜仪，可以产生非常薄，颗粒极细小的金属薄膜或导电的碳膜，适用于高分辨的FE-SEM分析
Leica EM SCD500是一套多功能高真空镀膜仪，可以产生非常薄，颗粒极细小的金属薄膜或导电的碳膜，适用于高分辨的FE-SEM分析。
Leica EM SCD500在一个单元体系中即可实现很多种可选的改装，不仅可以高真空溅射镀膜，还可碳丝镀膜，热阻蒸发镀膜及碳棒蒸发镀膜，还可实现冷冻样品制备，如冷冻干燥，冷冻断裂/蚀刻，双复型，冷冻镀膜及与Leica EM VCT100相连实现冷冻样品的真空传输。
一机多配在一个单元体系中可实现多种可选的改装，即通过简易改装便可适用于不同应用。真空样品仓可调换以适用不同的样品尺寸或不同用途。 | 高真空系统高真空系统可获得的镀膜质量，可选配的无油真空系统，使用隔膜泵可实现无油污染的镀膜。 |
行星转动样品台行星转动样品台，可提供最均一的表面镀膜效果；旋转及倾斜样品台也可获得很好的镀膜。 | 无级可调高度样品台无级可调高度样品台高度与予选薄膜沉积调节和保存样本溅射参数对试样的破坏减到。 |
蚀刻装置内置高压蚀刻装置清洁表面，提高了涂层的附着力，或增进碳薄膜的亲水性 |
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