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【行业应用】徕卡显微镜在半导体晶圆制造中的应用-研发

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更新时间:2025-02-20 11:56:15浏览次数:15次

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产品简介

半导体晶圆制造半导体晶圆制造需要高精度、快速显微成像及处理解决方案,在确保终端产品的高精度和清洁度的同时,实现地组装、检验、测量、分析并记录

详细介绍

半导体晶圆制造

半导体晶圆制造需要高精度快速显微成像及处理解决方案,在确保终端产品的高精度和清洁度的同时,实现地组装、检验、测量、分析并记录。除了光学分辨率很高之外,利用徕卡显微系统的人体工程学立体显微镜和复合显微镜的生产线,还可以提高生产效率,缓解重复性工作带来的肌肉和视觉疲劳

了解更多关于高分辨率符合人体工学高性价比的晶圆处理及检验的显微镜解决方案。

· 研发

使用徕卡显微系统半导体晶圆研发显微解决方案,观察和分析细节的同时提高生产效率。徕卡显微系统提供自动化的操作和一系列对比方法,易于在宏观/微观两种模式切换,同时提供性价比高的系外线照明,为您提供多种多样的前端检测和检查工作的成像解决方案,

复合解决方案

徕卡显微系统半导体晶圆研发复合显微镜为您在检测、过程控制和缺陷分析中带来快速准确的结果。徕卡DM8000M DM12000 M 解决方案提供的照明和光学技术,提升产量。解决方案包括投射光照明, Leica DFC450数码摄像头, 以及Leica 应用组合 (LAS) 显微镜成像软件,包括 专为表面成像和测量的Montage,Multistep, Image Analysis, Interactive Measurement, Leica MAP

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共聚焦/干涉解决方案

Leica_DCM8_Surface_Metrology-m.jpg

徕卡DCM8提供高速3D成像技术,配备有适合进一步研究的完整分析数据获取系统。这款双核解决方案结合了共聚焦显微镜和干涉技术,为您带来横向达到2nm,纵向达到0.1nm的分辨率。感谢我们的直观软件,能快速、简单的获取和分析所有表面数据。解决方案包括:适合标准和共聚焦显微镜的传感头,VSI, PSI 以及ePSI干涉,手动转换镜盘,开放Z扫描回路,电脑控制器,和27"显示器,HD CCD摄像头,LED照明(红光、绿光、蓝光、白光),徕卡扫描软件。


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