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GPM-2-300光谱磨平机

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更新时间：2025-04-16 18:35:41浏览次数：14次

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产品简介

在金相试样制备和光谱分析应用中，试样的磨平是金相制样和光谱分析前的重要工序。

详细介绍

产品介绍：

在金相试样制备和光谱分析应用中，试样的磨平是金相制样和光谱分析前的重要工序。GPM-2-300型光谱磨平机整机采用喷塑工艺制作，双盘独立控制，磨盘无级调速，罩壳设计可有效保障磨样安全，机箱内装有吸尘装置可避免环境污染，该机启动平稳、传动功率大、噪音低，可满足不同材料的制备要求，提高试样的磨抛质量和制备效率，是一种非常合适和功能完善的金相制样制备。

技术参数：

型号	GMP-2-300
磨盘直径	300mm
砂纸直径	300mm
转速	无级调速100~1400r/min 或四档速300, 600, 900, 1400 r/min
转向	顺时针或逆时针
电机功率	550W
显示及操作	数码管显示，薄膜按键操作，带吸尘装置
输入电源	单相220V, 50Hz, 10A
外形尺寸	820×440×940mm
净重	122kg