中微半导体前三季度实现营收80.63亿元 薄膜设备业务暴涨1332.69%
2025-11-12 15:00:27化工仪器网阅读量：2307 我要评论
近日，中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称：中微半导体)公布2025 年第三季度报告。报告显示，公司2025年前三季度(1-9月)营业收入为80.63亿元，同比增长约46.4%；归母净利润为12.11亿元，同比增长约32.66%。其中，第三季度营业收入为31.02亿元，同比增长约50.62%；归母净利润为5.05亿元，同比增长约27.5%。
根据报告，中微半导体前三季度业绩大涨，主要得益于刻蚀设备收入61.01亿元，同比增长约38.26%；LPCVD和ALD等薄膜设备收入4.03亿元，同比增长约1332.69%。
2025 年前三季度(1-9月)归属于上市公司股东的净利润为12.11亿元，较上年同期增长约2.98 亿元，同比增长约32.66%，主要原因为：
1. 2025年前三季度营业收入增长46.40%下，毛利较上年增长约8.27亿元；
2. 由于市场对中微开发多种新设备的需求急剧增长，2025年公司显著加大研发力度，以尽快补短板，实现赶超，为持续增长打好基础。2025年前三季度公司研发支出较上年同期增长9.79亿元(增长约63.44%)，研发支出占公司营业收入比例约为31.29%，远高于科创板均值；
3. 由于市场波动，公司2025年前三季度计入非经常性损益的股权投资收益为3.29 亿元，较上年同期增加约2.75亿元。
除此之外，中微半导体还根据市场需求，显著加大研发力度。2025年前三季度公司研发支出25.23亿元，较去年同期增长约63.44%，研发支出占公司营业收入比例约为31.29%。
其中CCP方面，公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长，60比1超高深宽比介质刻蚀设备成为国内标配设备，量产指标稳步提升，下一代90比1超高深宽比介质刻蚀设备即将进入市场；ICP方面，适用于下一代逻辑和存储客户用ICP刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得了良好进展。加工的精度和重复性已达到单原子水平。公司为先进存储器件和逻辑器件开发的LPCVD、ALD等多款薄膜设备已经顺利进入市场，并且设备性能完全达到国际领先水平，薄膜设备的覆盖率不断增加。
素材来源：中微半导体
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