日照洁净室生产设备工业设计选用
为实现在洁净室内使用防尘、防污染的生产设备和辅助生产设备，在工业设计和选用设备是应该遵循的一些基本要求。日照洁净室生产设备工业设计选用
设备表面光洁、易清洁、不积尘、不挥发化学物质。这里不能只理解为设备外表面，应该包括设备的所有可能与洁净室生产环境接触的表面和可能与电子产品生产过程接触的表面，也包括这些表面的制作材料。某些电子产品与一些化学物质在制作过程中或在电子产品的使用过程中可能发生化学反应，影响某些电子产品的性能参数，所以要求设备表面不挥发化学物质。
在电子工业洁净室内，常常按产品生产工艺要求配置有在生产运行中将会散发微粒或排热量大或排出有毒、可燃气体的设备，如半导体器件、集成电路生产中的扩散炉、外延炉、刻蚀机、离子注入设备、气相沉积设备等，此类设备一般均没有局部排风设施。
由于电子产品生产工艺的需要，某些设备必须跨越不同空气洁净度等级的洁净室时，应采取固定隔断或接空气幕等可靠的密封隔断措施。
保护洁净室内工作人员的身体健康，洁净室内噪声容许值，因此安装在洁净室内的设备应选用符合要求的低噪声设备，由于电子产品生产过程或设备设计、运行条件的限制，所选设备超过洁净室噪声容许值时，应根据具体工程项目的实际条件采取相应的隔声措施。
