扫描型光学膜厚仪 FR-Scanner

FR-Scanner 扫描型光学膜厚仪主要由以下系统组成：

A)   光学光源装置

小型低功率混合式光源

本系统混合了白炽灯和LED灯，终形成光谱范围360nm- 1100nm；该光源系统通过微处理控制，光源平均寿命逾10000小时；

集成小型光谱仪，光谱范围360-1020nm,分辨精度 3648像素CCD 和 16位 A/D 分辨精度.

集成式反射探针，6组透射光探针（200um），1组反射光探针，探针嵌入光源头，可修整位置，确保探针无弯曲操作；

光源功率:3W;

B)    超快扫描系统，平面坐标内，可进行625次测量/分钟 (8’’ wafer) 或500次测量/分钟(300mm wafer). 全速扫描时，扫描仪的功率消耗不超过200W；

样品处理台：大样品处理尺寸可达300mm. 可满足所有半导体工艺要求的晶圆尺寸。手动调节测量高度可达25mm；配有USB通讯接口，功率：100 - 230V 115W.

C) FR-Monitor膜厚测试软件系统，

可精确计算如下参数：

1）单一或堆积膜层的厚度；

2）静态或动态模式下，单一膜层的折射率；本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库，可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率，透射率和反射率的测量，还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱，一次使用*，即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。

D) 参考样片:

a) 经校准过的反射标准硅片；

b) 经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片；

E) 附件

可定制适用于半导体工艺的任何尺寸的晶圆片(2”, 3”, 4”, 5”, 6”, 200mm, 300mm)