GMD2000/4-*溶液中试型研磨分散机

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SGN*溶液中试型研磨分散机设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。

*，适用于上、下消化道造影。无臭、无味粉末，密度4.25-4.5，分解温度＞1600℃。溶于热浓硫酸，几乎不溶于水、稀酸、醇。水悬浮溶液对石蕊试纸呈中性。
    

对于*溶液的生产，目前许多厂家采用国产胶体磨生产，由于国产胶体磨本身转速较低为2930转，生产出来的*溶液粒   径一般在20μm左右，而且生产效果很低，需要研磨5-6小时。而使用SGN研磨分散机进行处理，研磨两遍，粒径可以细化到5μm，效果好，效率高。

研磨分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备，效果远远好于单台胶体磨处理的效果，研磨分散机是一台目前型的研磨分散设备

*CMD2000系列研磨分散设备是SGN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

上海思峻的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将SGN/思峻胶体磨进行进一步的改良，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择） SGN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前国产设备转速的4-5倍。

*溶液中试型研磨分散机的特点：

线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

设备其它参数:

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器